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7783-61-1 分子结构
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tetrafluorosilane

ChemBase编号:138895
分子式:F4Si
平均质量:104.0791128
单一同位素质量:103.97053941
SMILES和InChIs

SMILES:
F[Si](F)(F)F
Canonical SMILES:
F[Si](F)(F)F
InChI:
InChI=1S/F4Si/c1-5(2,3)4
InChIKey:
ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N

引用这个纪录

CBID:138895 http://www.chembase.cn/molecule-138895.html

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名称和登记号

名称和登记号

名称 登记号
IUPAC标准名
tetrafluorosilane
IUPAC传统名
silicon tetrafluoride
别名
氟化硅(IV)
四氟化硅
Silicon(IV) fluoride
Silicon tetrafluoride
CAS号
7783-61-1
EC号
232-015-5
MDL号
MFCD00040533
PubChem SID
24869885
162233146
PubChem CID
24556

数据来源

数据来源

所有数据来源 商品来源 非商品来源
数据来源 数据ID 价格
Sigma Aldrich
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数据来源 数据ID
PubChem 24556 external link

理论计算性质

理论计算性质

JChem
质子受体 质子供体
LogD (pH = 5.5) 0.914  LogD (pH = 7.4) 0.914 
Log P 0.914  摩尔折射率 6.0052 cm3
极化性 3.9217172 Å3 极化表面积 0.0 Å2
可自由旋转的化学键 里宾斯基五规则 true 

分子性质

分子性质

理化性质 安全信息 产品相关信息 生物活性(PubChem)
熔点
-90 °C(lit.) expand 查看数据来源
沸点
-86 °C(lit.) expand 查看数据来源
密度
3.57 g/mL at 25 °C(lit.) expand 查看数据来源
转变温度
critical temperature -14.2 °C expand 查看数据来源
RTECS编号
VW2327000 expand 查看数据来源
欧盟危险性物质标志
剧毒(Highly toxic) 剧毒(Highly toxic) (T+) expand 查看数据来源
联合国危险货物编号
1859 expand 查看数据来源
MSDS下载
下载链接 expand 查看数据来源
德国WGK号
3 expand 查看数据来源
联合国危险货物等级
2.3 expand 查看数据来源
危险公开号
14-26/27/28-31-34 expand 查看数据来源
安全公开号
23-26-36/37/39-45 expand 查看数据来源
GHS危险品标识
GHS05 expand 查看数据来源
GHS06 expand 查看数据来源
GHS警示词
Danger expand 查看数据来源
GHS危险声明
H300 +H310 + H330-H314 expand 查看数据来源
GHS警示性声明
P260-P264-P280-P284-P301 + P310-P302 + P350 expand 查看数据来源
个人保护装置
Faceshields, full-face respirator (US), Gloves, Goggles, multi-purpose combination respirator cartridge (US) expand 查看数据来源
RID/ADR
UN 1859 2.3 expand 查看数据来源
欧盟补充危害声明
Contact with water liberates toxic gas., Reacts violently with water. expand 查看数据来源
纯度
≥99.99% expand 查看数据来源
级别
electronic grade expand 查看数据来源
杂质
<0.5 ppm Carbon monoxide (CO) expand 查看数据来源
<1 ppm Argon + oxygen (Ar + O2) expand 查看数据来源
<1 ppm Carbon dioxide (CO2) expand 查看数据来源
<10 ppm Methane (CH4) expand 查看数据来源
<3 ppm Nitrogen (N2) expand 查看数据来源
<50 ppm Hydrogen fluoride (HF) expand 查看数据来源
线性分子式
SiF4 expand 查看数据来源

详细说明

详细说明

Sigma Aldrich Sigma Aldrich
Sigma Aldrich -  463019 external link
Application
四氟化硅用于离子注入过程,在等离子辅助化学气相沉积中作为氟化二氧化硅的前体。SiF4-SiH4-H2 混合物用于远距等离子辅助化学气相沉积法 (RPCVD) 沉积多晶硅薄膜。1,2这种氟化薄膜在室温下具有可见光致发光 (PL) 特性。3
包装
100 g in steel cylinder
Recommended products
推荐使用 Monel 控制阀 Z261793、Z261807 或 Monel 气体调节器 Z405981、Z406007。

参考文献

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