三甲基硼

• 产品号: 463094
• CAS号: 593-90-8
• 分子式: C3H9B
• 分子量: 55.91456
• 纯 度: ≥98.35%

产品别名

• 标题: Trimethylboron
• IUPAC标准名: trimethylborane
• IUPAC传统名: trimethylborane

产品登记号

• EC号: 209-816-3
• CAS号: 593-90-8
• MDL号: MFCD00058727
• PubChem SID: 24869894

产品性质

• 级别: electronic grade
• 杂质: <1 ppm Oxygen (O2)
• 杂质: <1.5% Dimethylethylborane [B(CH3)2C2H5]
• 杂质: <10 ppm Carbon dioxide (CO2)
• 杂质: <10 ppm Nitrogen (N2)
• 杂质: <100 ppm Methane (CH4)
• 杂质: <1000 ppm Trimethylamine (TMA)
• 杂质: <50 ppm Hydrogen (H2)
• 线性分子式: B(CH3)3
• 纯度: ≥98.35%
• 外观: gas
• 沸点: -20.2 °C(lit.)
• 熔点: -161.5 °C(lit.)
• GHS警示词: Danger
• GHS危险声明: H280-H314
• 欧盟危险性物质标志: 易燃性(Flammable) (F)
• 欧盟危险性物质标志: 腐蚀性(Corrosive) (C)
• 个人保护装置: Faceshields, Gloves, Goggles, half-mask respirator (US), multi-purpose combination respirator cartridge (US)
• GHS警示性声明: P280-P305 + P351 + P338-P310-P410 + P403
• RID/ADR: UN 3160 2.3
• 危险公开号: 17-34
• 安全公开号: 7-23-26-36/37/39-43-45
• 联合国危险货物等级: 2.3
• 联合国危险货物编号: 3160
• 德国WGK号: 1

产品详细信息

详细说明 (English)

Application
Precursor to boron carbide thin films by chemical vapor deposition (CVD).1
Trimethylboron is used as an organometallic precursor for the CVD of boron-carbon containing films and as a boron source in the deposition of borophosphosilicate glass (BPSG).
Packaging
10 g in ss cylinder
Recommended products
Stainless steel regulators Z527416 or Z527424 are recommended.

详细说明 (简体中文)

Application
三甲基硼可作为硼-碳膜化学气相沉积的有机金属前体，以及硼磷硅玻璃 (BPSG) 沉积的硼源。
化学气相沉积 (CVD) 所形成碳化硼薄膜的前体。1
包装
10 g in ss cylinder
Recommended products
建议使用不锈钢调节器 Z527416 或 Z527424。