oxo-λ2-silanylidene

• ChemBase编号: 303566
• 分子式: OSi
• 平均质量: 44.0849
• 单一同位素质量: 43.97184115
• SMILES: [Si]=O
• Canonical SMILES: O=[Si]
• InChI: InChI=1S/OSi/c1-2
• InChIKey: LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N

名称和登记号

名称

• IUPAC标准名: oxo-λ^2-silanylidene
• IUPAC传统名: oxo-λ^2-silanylidene
• 别名: 氧化亚硅(II)溅射靶, 76.2mm (3.0in) 直径 x 3.18mm (0.125in) 厚; 氧化亚硅(II)溅射靶, 76.2mm (3.0in) 直径 x 6.35mm (0.250in) 厚; 氧化亚硅(II)溅射靶, 50.8mm (2.0in) 直径 x 3.18mm (0.125in) 厚; 氧化亚硅(II)溅射靶, 50.8mm (2.0in) 直径 x 6.35mm (0.250in) 厚; Silicon(II) oxide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick; Silicon(II) oxide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick; Oxosilylene; Silicon(II) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick; Silicon(II) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick

登记号

• CAS号: 10097-28-6
• EC号: 233-232-8
• MDL号: MFCD00151536

理论计算性质

• 质子受体: 1
• 质子供体: 0
• LogD (pH = 5.5): -0.3064
• LogD (pH = 7.4): -0.3064
• Log P: -0.3064
• 摩尔折射率: 1.4429 cm^3
• 极化性: 2.9370852 Å^3
• 极化表面积: 17.07 Å^2
• 可自由旋转的化学键: 0
• 里宾斯基五规则: true

分子性质

理化性质

• 外观: Target
• 熔点: >1702°C
• 沸点: 1880°C
• 密度: 2.13

安全信息

• TSCA收录: 是

产品相关信息

• 纯度: 99.9% (metals basis)