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7631-86-9 分子结构
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silicon(4+) ion dioxidandiide

ChemBase编号:302763
分子式:O2Si
平均质量:60.0843
单一同位素质量:59.96675577
SMILES和InChIs

SMILES:
[O-2].[O-2].[SiH4+4]
Canonical SMILES:
[O-2].[O-2].[SiH4+4]
InChI:
InChI=1S/2O.Si/q2*-2;+4
InChIKey:
ZMBYZFXRKKDSCM-UHFFFAOYSA-N

引用这个纪录

CBID:302763 http://www.chembase.cn/molecule-302763.html

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名称和登记号

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名称 登记号
IUPAC标准名
silicon(4+) ion dioxidandiide
IUPAC传统名
silicon(4+) ion dioxidandiide
别名
二氧化硅(IV), Puratronic®
/g
二氧化硅(IV)
二氧化硅(IV)溅射靶, 50.8mm (2.0in) 直径 x 6.35mm (0.250in) 厚
二氧化硅(IV)溅射靶, 76.2mm (3.0in) 直径 x 6.35mm (0.250in) 厚
二氧化硅(IV)溅射靶, 50.8mm (2.0in) 直径 x 3.18mm (0.125in) 厚
二氧化硅(IV)溅射靶, 76.2mm (3.0in) 直径 x 3.18mm (0.125in) 厚
Silicon(IV) oxide, Puratronic®
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, S.A. 350-420m
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, S.A. 175-225m
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, S.A. 300-350m
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, surface treated, S.A. 105-145m
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, surface treated, S.A. 105-130m
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, surface treated, S.A. 205-245m
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, S.A. 85-115m
Silicon(IV) oxide, amorphous fumed, S.A. 130-170m
Silicon(IV) oxide
Silicon(IV) oxide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick
Silicon(IV) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick
Silicon(IV) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick
Silicon(IV) oxide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick
CAS号
7631-86-9
14808-60-7
EC号
238-878-4
231-545-4
MDL号
MFCD00011232
默克索引号
148493

理论计算性质

理论计算性质

JChem
Acid pKa 15.7  质子受体
质子供体 LogD (pH = 5.5) -0.652 
LogD (pH = 7.4) -0.652  Log P -0.652 
摩尔折射率 13.1149 cm3 极化性 1.8190874 Å3
极化表面积 0.0 Å2 可自由旋转的化学键
里宾斯基五规则 true 

分子性质

分子性质

理化性质 安全信息 产品相关信息 生物活性(PubChem)
外观
0.004 Micron Particles, in Liquid, S.A. 650m2/g expand 查看数据来源
0.01 Micron Particles, in Liquid, S.A. 305m2/g expand 查看数据来源
0.014 Micron Particles, in Liquid, S.A. 250m2/g expand 查看数据来源
0.02 Micron Particles, in Liquid expand 查看数据来源
0.02 Micron Particles, in Liquid, S.A. 180m2/g expand 查看数据来源
0.02 Micron Particles, in Liquid, S.A. 200m2/g expand 查看数据来源
1-3mm Fused Lump expand 查看数据来源
3-12mm Fused Lump expand 查看数据来源
-325 Mesh Fused Amorphous Powder, S.A. 5m2/g expand 查看数据来源
-325 Mesh Powder expand 查看数据来源
-325 mesh powder expand 查看数据来源
-325 Mesh powder expand 查看数据来源
-40 Mesh Powder expand 查看数据来源
Powder expand 查看数据来源
熔点
1710°C expand 查看数据来源
沸点
2230°C expand 查看数据来源
密度
1.20 expand 查看数据来源
1.30 expand 查看数据来源
1.40 expand 查看数据来源
1.8 expand 查看数据来源
2.2 expand 查看数据来源
2.2-2.6 expand 查看数据来源
折射率
1.46 expand 查看数据来源
RTECS编号
EU8655000 expand 查看数据来源
VV7330000 expand 查看数据来源
欧盟危险性物质标志
有毒(Toxic) 有毒(Toxic) (T) expand 查看数据来源
X expand 查看数据来源
危险公开号
48/20 expand 查看数据来源
49-48/20 expand 查看数据来源
安全公开号
36 expand 查看数据来源
53-36-45-60 expand 查看数据来源
53-45 expand 查看数据来源
TSCA收录
expand 查看数据来源
GHS危险品标识
GHS07 expand 查看数据来源
GHS08 expand 查看数据来源
GHS危险声明
H319 expand 查看数据来源
H350-H373 expand 查看数据来源
H373 expand 查看数据来源
GHS警示性声明
P260-P281-P308+P313-P314-P405-P501A expand 查看数据来源
P260-P314-P501A expand 查看数据来源
P280-P264-P305+P351+P338-P337+P313 expand 查看数据来源
纯度
15% in H2O, colloidal dispersion expand 查看数据来源
30% in H2O, colloidal dispersion expand 查看数据来源
40% in H2O, colloidal dispersion expand 查看数据来源
50% in H2O, colloidal dispersion expand 查看数据来源
99.5% (metals basis) expand 查看数据来源
99.8% (metals basis) expand 查看数据来源
99.99% (metals basis) expand 查看数据来源
99.995% (metals basis) expand 查看数据来源
99.999% (metals basis) expand 查看数据来源

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参考文献

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